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氮化鋁陶瓷燒結(jié)爐適用范圍： 專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)對陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī) 械、耐火材料、新材料開發(fā)、特種材料、建材、金屬、非金屬及其它化和物材料進(jìn)行 燒結(jié)﹑融化﹑分析、生產(chǎn)而研制的設(shè)備
氮化鋁陶瓷排膠爐適用范圍：氧化鋯、氧化鋁、電子陶瓷、多孔陶瓷、陶瓷插芯、催化劑等電子陶瓷元件、磁性材料、壓敏電阻器件產(chǎn)品排膠、脫蠟、烘干、焙燒、固化等工藝。
1200度脫脂爐適用范圍: 氮化鋁、氮化硅、氧化鋁、氧化鋯、介質(zhì)陶瓷和精細(xì)陶瓷元件的脫脂和預(yù)燒結(jié)一體化工藝，也可以用于陶瓷粉體材料、 磁性材料、LTCC，MLCC，NTC，NFC，陶瓷芯等其他電子元器件的排膠、預(yù)燒和燒結(jié)工藝，采用五方加熱方式，采用熱場控制方式使得低溫排膠和高溫預(yù)燒的溫場均勻性好，保證了排膠和燒結(jié)兩個工藝段所需要的溫場均勻性。
1200度排蠟爐適用范圍: 氮化鋁、氮化硅、氧化鋁、氧化鋯、介質(zhì)陶瓷和精細(xì)陶瓷元件的脫脂和預(yù)燒結(jié)一體化工藝，也可以用于陶瓷粉體材料、 磁性材料、LTCC，MLCC，NTC，NFC，陶瓷芯等其他電子元器件的排膠、預(yù)燒和燒結(jié)工藝，采用五方加熱方式，采用 熱場控制方式使得低溫排膠和高溫預(yù)燒的溫場均勻性好，保證了排膠和燒結(jié)兩個工藝段所需要的溫場均勻性。
1200度脫蠟爐適用范圍: 氮化鋁、氮化硅、氧化鋁、氧化鋯、介質(zhì)陶瓷和精細(xì)陶瓷元件的脫脂和預(yù)燒結(jié)一體化工藝，也可以用于陶瓷粉體材料、 磁性材料、LTCC，MLCC，NTC，NFC，陶瓷芯等其他電子元器件的排膠、預(yù)燒和燒結(jié)工藝，采用五方加熱方式，采用熱場控制方式使得低溫排膠和高溫預(yù)燒的溫場均勻性好，保證了排膠和燒結(jié)兩個工藝段所需要的溫場均勻性。
1200度排膠爐適用范圍: 氮化鋁、氮化硅、氧化鋁、氧化鋯、介質(zhì)陶瓷和精細(xì)陶瓷元件的脫脂和預(yù)燒結(jié)一體化工藝，也可以用于陶瓷粉體材料、 磁性材料、LTCC，MLCC，NTC，NFC，陶瓷芯等其他電子元器件的排膠、預(yù)燒和燒結(jié)工藝，采用五方加熱方式，采用熱場控制方式使得低溫排膠和高溫預(yù)燒的溫場均勻性好，保證了排膠和燒結(jié)兩個工藝段所需要的溫場均勻性。
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